什么叫镀膜玻璃水(汽车玻璃滑水镀膜)

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磁控溅射镀膜技术是固态物质源离子镀膜技术的一种,在辉光放电过程中,氩离子在电场中加速后具有一定动能的特点,将离子引向欲被溅射的物质制成的靶电极,并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法称之为溅射镀膜。

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溅射原理

和阴极电弧离子镀膜相比,磁控溅射镀所镀的膜层组织细密,粗大的熔滴颗粒少:和空心阴极离子镀膜和热丝弧离子镀膜技术相比,磁控渡射是大面积镀膜源,可以镀制大零件;和真空蒸发镀膜技术相比,膜层粒子的能量大、膜基结合力好,膜层组织致密,无针孔等。因此,磁控溅射镀膜技术是镀制半导体器件、信息显示器件等具有特殊性能的功能薄膜的主要镀膜技术,也是镀制节能玻璃、透明导电玻璃、高档装饰品、手机盖板等的主要镀膜技术。

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装饰品

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太阳能电池

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节能玻璃

在磁控溅射镀膜技术中,膜层粒子来自氩离子对阴极靶的溅射作用,靶材形状和阴极电弧源的靶材类似,有平面靶、圆锥靶和柱状靶。以下介绍平面靶和圆柱靶:

平面磁控溅射靶是最早产业互应用的磁控溅射靶材结构,也是生产其他类型磁控溅射靶的基础

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平面靶

将欲沉积的金属材料制作成靶材、安装在磁控溅射靶 靶座上,中间通水冷却。磁控溅射靶座接电源的负极,沉积室接正极或在靶材周边接阳极。靶材的后面安装永磁体,多采用钕铁硼。中心部分永磁体的排布方向与外周磁体的排布方向相反。在靶面上产生的磁力线方向如图所示,即由周边向中心,或反向排列磁力线方向由中心向外周边。永磁体后面的磁极性被磁极靴短路了,只有靶前面有空间剩余磁场,这就是要利用的磁场。

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由上可知,平面靶的磁场分布平面靶磁场式不均匀的。磁场水平分量最大的部位对电子的束缚力最大,这样电子与氩气产生碰撞电离的最为强烈,其他的位置稍弱,很明显的就是靶面放电产生的辉光不均匀,导致平面靶的靶材利用率低。在放电最为激烈的区域电离的氩离子最多,对靶材的溅射作用越大,溅射速率越高,是提供膜层原子的主要区域,此处的靶材溅射刻蚀的最快,久而久之,这个位置就会出现凹陷甚至打漏。

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平面靶凹陷

平面磁控溅射靶在科研、生产中引用历史悠久,在使用过程中一直存在着利用率低下、沉积绝缘膜容易靶中毒、成本高结构复杂等问题,以此研制出的柱状磁控溅射靶很好的降低了平面靶的不良,目前在各种应用中逐渐扩大。

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圆柱靶

相较于平面靶,柱状靶靶材利用率高。在镀膜过程中,管表面各部位连续经过永磁体前面产生的溅射区接受阴极溅射,靶材可以受到均匀的溅射刻蚀,靶材利用率高,达80%-90%;靶管表面始终受到氩离子的溅射刻蚀,表面上不容易积存很厚的氧化物等绝缘膜,难产生“靶中毒”现象。

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安装圆柱靶的设备

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孪生靶

鉴于磁控溅射镀膜的放电电流密度低,真空室内等离子体密度低,使得膜-基结合力低、金属离化率低、沉积效率低等缺陷。正常情况下都会增设弧光放电装置,利用弧光放电产生的弧光等离子体中的高密度电子对工件进行轰击清洗,还能够对镀膜进行辅助沉积作用。在磁控溅射镀膜中配置阴极电弧源集清洗源、镀膜源、离化源于一体,这对提高磁控溅射镀膜有很大的作用。

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